（原标题：打破日美独占 国产ArF光刻胶取得重大打破：可用于7nm工艺）

作为半导体卡脖子的技能之一，很多人只知道光刻机，却不知道光刻胶的重要性，这个商场也是被日本及美国公司独占，TOP5厂商占了全球85%的比例。

国产光刻胶此前只能用于低端工艺出产线中，能做到G线（436nm）、I线 （365nm）水平，现在首要在用的ArF光刻胶仍是靠进口，EUV光刻胶现在还没有公司能出产，大多数都控制在日本公司手中。

不过EUV光刻胶也不是急需的，由于国内现在还没有EUV工艺量产，193nm的ArF光刻胶愈加重要，现在国内有多家公司正在攻关中，这种光刻胶能够用于28nm到7nm工艺的先进工艺。

今日，南大光电在互动渠道表明，公司的ArF光刻胶正在按方案进行客户测验，这在某种程度上预示着国内的ArF光刻胶技能取得了重要打破，从研制开端走向出产。

依据南大光电公司之前的 音讯，公司于2017年开端研制“193nm光刻胶项目”，已取得国家“02专项”的相关项目立项，公司方案经过3年的建造、投产及完成出售，到达年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的出产规模，产品将满意集成电路职业需求规范。

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